Nanoscale
21 May 2020
Laser Plasmônico Ultrarrápido de uma Interface Metal/Semicondutor
Jian Wang,‡ab Xiaohao Jia,‡cd Zhaotong Wang,e Weilong Liu,f Xiaojun Zhu,f Zhitao Huang,cd Haichao Yu,g Qingxin Yang,f Ye Sun,e Zhijie Wang,*cd Shengchun Qu,cd Jie Lin,*ab Peng Jin*ab and Zhanguo Wangcd
a Centro de Engenharia de Instrumentos Optoeletrônicos de Ultra-precisão, Instituto de Tecnologia de Harbin, Harbin 150080, China
b Laboratório-Chave de Fabricação de Microssistemas e Microestruturas (Instituto de Tecnologia de Harbin), Ministério da Educação, Harbin 150080, China
c Laboratório-Chave de Ciência de Materiais Semicondutores e Laboratório-Chave de Pequim para Materiais e Dispositivos Semicondutores de Baixa Dimensionalidade, Instituto de Semicondutores, Academia Chinesa de Ciências, Pequim 100083, China
d Centro de Ciência de Materiais e Optoeletrônica, Universidade da Academia Chinesa de Ciências, Pequim 100049, China
e Escola de Ciência e Engenharia de Instrumentação, Instituto de Tecnologia de Harbin, Harbin 150080, China
f Departamento de Física, Instituto de Tecnologia de Harbin, Harbin 150080, China
g Instituto de Suzhou de Nano-Tecnologia e Nano-Biônica, Academia Chinesa de Ciências, Suzhou 215125, China
‡ Estes dois autores contribuíram igualmente para este trabalho
10.1039/D0NR02330B
Nosso horário
Seg, 21/11 - Quarta, 23/11: 9h - 20h
Qui, 24/11: fechado - Feliz Dia de Ação de Graças!
Sexta-feira, 25/11: 8h - 22h
Sábado, 26/11 - Dom, 27/11: 10h - 21h
(todos os horários são horário do leste)